Sputtering Target

Volframove kružne mete za raspršivanje

Volframove kružne mete za raspršivanje Opis Volfram, kao često korišćeni materijal za mete, igra ključnu ulogu u rendgenskim cevima. Radna temperatura katode je oko 2000K. Emitovani elektroni se

Dodajte na upit
Okrugle mete od volframa visoke čistoće

Volframove okrugle mete visoke čistoće Opis Okrugle mete od volframa visoke čistoće su najčešće korišćeni materijali za mete u poređenju sa prozorima od berilijuma. Imaju visoke atomske koeficijente,

Dodajte na upit
PVD 4N meta za prskanje nikla

PVD 4N Nickel Sputtering Target Opis PVD 4N Nickel Sputtering Target je meta napravljena od materijala visoke čistoće nikla za PVD tehnologiju, koja omogućava postizanje tankih filmova sa odličnom

Dodajte na upit
Titanijum aluminijske okrugle mete

Titanijum-aluminijumske okrugle mete Opis Titanijum-aluminijumske okrugle mete su najčešće korišćene metalne mete za vakuumsko premazivanje. Različita svojstva mogu se dobiti miješanjem sadržaja

Dodajte na upit
Borne mete visoke čistoće

Borne mete visoke čistoće Karakteristike i primjena Cilj za premazivanje je izvor raspršivanja koji formira različite funkcionalne filmove na podlozi magnetronskim raspršivanjem, višelučnim ionskim

Dodajte na upit
99,99% nikl okruglih meta

99,99% nikl okrugli cilj Opis Spularenje Cilj se odnosi na sirovinu koja se koristi u postupku taloženja za pljusak. Odnosi se na proces u kojem se atomi izbacuju iz čvrste ciljeve zbog bombardiranja

Dodajte na upit
Meta od čistog nikla

Čisti nikl Metal Meta Opis Nikl je srebrno-bijeli metal sa magnetnim svojstvima i dobrom plastičnošću, uglavnom se koristi u legurama (kao što su nikl čelik i nikl srebro) i kao katalizator

Dodajte na upit
Meta za prskanje nikl Ni

Karakteristike i primjena cilja za raspršivanje nikl Ni Nikl je srebrno-bijeli metalni element sa dobrom duktilnošću, žilavošću i visokom tačkom topljenja. U industriji, nikal se obično koristi u

Dodajte na upit
99,99% mete za prskanje nikla

99,99% mete za raspršivanje nikla Opis Ciljni materijal je materijal koji se koristi kao izvor raspršivanja ili isparavanja u procesu fizičkog taloženja pare (PVD) ili hemijskog taloženja pare (CVD),

Dodajte na upit
Visoka čistoća 4N meta za raspršivanje nikla

Meta za raspršivanje nikla visoke čistoće 4N Opis Meta za raspršivanje nikla visoke čistoće 4N napravljena je od materijala nikla visoke čistoće nakon metalurgije praha i poliranja kovanja. Može se

Dodajte na upit
Chromium Rotary Sputter Meta

Chromium Rotary Sputter Meta Opis Krom ima dobru otpornost na oksidaciju i otpornost na koroziju, i može formirati stabilan oksidni film u prirodnom okruženju kako bi zaštitio metal od dalje

Dodajte na upit
Cirkonijum 702 Okrugla meta za raspršivanje

Zirconium 702 Round Sputtering Target Opis Taloženje tankog filma (prevlaka) je proces formiranja i nanošenja tankog filma na materijale supstrata koji se mogu koristiti za promjenu ili poboljšanje

Dodajte na upit

Poznati smo kao jedan od vodećih proizvođača i dobavljača meta za prskanje u Kini. Ako ćete kupiti visokokvalitetnu metu za raspršivanje po konkurentnoj cijeni, dobrodošli smo da dobijete ponudu iz naše tvornice. Takođe, dostupna je prilagođena usluga.

(0/10)