Visoka čistoća 4N meta za raspršivanje nikla

Opis cilja 4N raspršivanja nikla visoke čistoće

High Purity 4N Nickel Sputter Target je napravljen od materijala visoke čistoće nikla nakon metalurgije praha i poliranja kovanja. Može se pripremiti raspršivanjem, isparavanjem elektronskih zraka, hemijskim taloženjem pare ili magnetronskim raspršivanjem. Filmovi od nikla dobre čistoće, ujednačenosti i jake provodljivosti koriste se u proizvodnji poluvodiča i integriranim kolima. 4N meta za raspršivanje nikla visoke čistoće ima izvrsna svojstva kao što su visoka čvrstoća i tvrdoća, visoka tačka topljenja, dobra duktilnost, visoka završna obrada, otpornost na koroziju, otpornost na udar, visoka električna i toplotna provodljivost, otpornost na habanje, magnetna stabilnost, itd. Takođe može Koristi se u vazduhoplovstvu, industriji dekoracije, hemijskoj industriji, energetskoj industriji, proizvodnji automobila i alatima za metaluršku obradu i drugim poljima za raspršivanje potrebnih metalnih filmova otpornih na habanje, protiv korozije i visoke temperature.

Specifikacije mete visoke čistoće 4N raspršivača nikla:

4N nikl sputter target Pictures visoke čistoće

Popularni tagovi: visoke čistoće 4n nikl sputter target, dobavljači, proizvođači, tvornica, prilagođeni, veleprodaja, cijena, ponuda, za prodaju