Sputtering Target

Cirkonijumske rotacione mete za raspršivanje

Cirkonijumske rotacione mete za raspršivanje Opis Cirkonijumske rotacione mete za raspršivanje napravljene su od cirkonijumskog materijala visoke čistoće nakon serije obrade, sa specifičnom veličinom

Dodajte na upit
Cirkonijum 702 Planarna meta

Cirkonijum 702 Planar Target Opis Cirkonijum je metalni element sa odličnom otpornošću na koroziju, visokom tačkom topljenja i dobrim mehaničkim svojstvima, što ga čini korisnim u raznim primenama

Dodajte na upit
Cirkonijum 702 Okrugla meta

Cirkonijum 702 Round Meta Opis Cirkonijum je sjajan sivo-beli jak prelazni metal koji se široko koristi u nuklearnoj industriji i vazduhoplovstvu. Zirconium 702 Round Target se često pravi od

Dodajte na upit
99,95% cirkonijumske mete za raspršivanje

99,95% cirkonijumske mete za raspršivanje Opis Magnetronsko raspršivanje je nova metoda fizičke prevlake parom, koja koristi sistem elektronskih topova da emituje elektrone i fokusira se na materijal

Dodajte na upit
Titanijumske mete visoke čistoće

Titanijumske mete visoke čistoće Opis Titanijum je paramagnetski vatrostalni metal sa jakom žilavošću i visokom čvrstoćom, posebno u okruženju bez kiseonika. Za mete, što je veća hemijska čistoća

Dodajte na upit
Meta za raspršivanje hroma visoke čistoće

Meta za raspršivanje hroma visoke čistoće Opis Krom je čelično-sivi, sjajni, tvrdi i krhki prelazni metal. Meta za raspršivanje hroma visoke čistoće se uglavnom proizvodi pomoću procesa vakuumskog

Dodajte na upit
99,5% mete za raspršivanje bora

99,5% mete za raspršivanje bora Opis Cilj za premazivanje je izvor raspršivanja koji formira različite funkcionalne filmove na podlozi raspršivanjem u odgovarajućim procesnim uslovima putem

Dodajte na upit
Ciljevi za raspršivanje molibdena (Mo).

Ciljevi za raspršivanje molibdena (Mo) Opis Kao vrhunska tehnologija pripreme tankoslojnog materijala, raspršivanje ima dvije karakteristike: veliku brzinu i ultra-nisku temperaturu. Mete za

Dodajte na upit
Metalna meta od titanijuma

Titanium Metal Target Opis Titanium Metal Target se uglavnom proizvodi metodom topljenja hlađenja elektronskim snopom. Ima visoku čistoću, visoku specifičnu čvrstoću, dobru žilavost u okruženju bez

Dodajte na upit
Ciljevi za prskanje metala nikla

Ciljevi za raspršivanje metala nikla Opis U industriji, nikl se obično koristi u pripremi legura, proizvodnji baterija i kao katalizator. Posebno u oblasti ciljnih materijala, nikl se široko koristi

Dodajte na upit
Metalne mete za prskanje hroma

Meta za raspršivanje metala hroma Opis Krom ima visoku tačku topljenja i dobru otpornost na oksidaciju, omogućavajući hromu da ostane stabilan u okruženjima visoke temperature. Pored toga,

Dodajte na upit
TiAl Titanijumska legura za raspršivanje

TiAl titanijumska legura za raspršivanje meta Opis Cilj za raspršivanje se odnosi na sirovinu koja se koristi u procesu taloženja raspršivanjem. Odnosi se na proces u kojem se atomi izbacuju iz

Dodajte na upit

Poznati smo kao jedan od vodećih proizvođača i dobavljača meta za prskanje u Kini. Ako ćete kupiti visokokvalitetnu metu za raspršivanje po konkurentnoj cijeni, dobrodošli smo da dobijete ponudu iz naše tvornice. Takođe, dostupna je prilagođena usluga.

(0/10)